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等离子喷涂的发展前景
新兴等离子喷涂技术近几年来,在等离子喷涂的基础上又发展了几种新的等离子喷涂技术,如:3.真空等离子喷涂(又叫低压等离子喷涂)真空等离子喷涂是在气氛可控的,4~40Kpa的密封室内进行喷涂的技术。因为工作气体等离子化后,是在低压气氛中边膨胀体积边喷出的,所以喷流速度是超音速的,而且非常适合于对氧化高度敏感的材料。4.水稳等离子喷涂前面说的等离子喷涂的工作介质都是气体,而这种方法的工作介质不是气而是水
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12-23
2019
等离子喷涂的工艺流程
在等离子喷涂过程中,影响涂层质量的工艺参数很多,主要有:①等离子气体:气体的选择原则主要根据是可用性和经济性,N2气便宜,且离子焰热焓高,传热快,利于粉末的加热和熔化,但对于易发生氮化反应的粉末或基体则不可采用。Ar气电离电位较低,等离子弧稳定且易于引燃,弧焰较短,适于小件或薄件的喷涂,此外Ar气还有很好的保护作用,但Ar气的热焓低,价格昂贵。气体流量大小直接影响等离子焰流的热焓和流速,从而影响
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12-23
2019
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